EUV lithography systems – Products - ASML
EUV lithography makes scaling more affordable for chipmakers and allows the semiconductor industry to continue its pursuit of Moore’s Law. EUV systems are used to print the most intricate layers on a chip, with the rest of the layers printed using various DUV systems. Both types of technology will be required in parallel for many years to ...
什么是EUV光刻机？ - 知乎专栏
2021年8月20日 · 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13和华为麒麟990用的就是这工艺，Intel也打算在他们的7nm节点上切入到EUV工艺，为什么这些半导体巨头们都在追捧EUV工艺呢？
DUV和EUV光刻机的区别在哪？--科普知识 - CAS
2021年12月21日 · euv技术起源于英特尔和美国政府牵头成立euv llc联盟。 该联盟汇聚了美国顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、摩托罗拉等科技巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究 ...
美国官方报告：深度解析EUV光刻的现状、需求和发展 - 知乎
2023年9月17日 · euv 光允许在半导体中构建更小的单位特征。 据报道，EUVL 系统目前的成本为 1.5 亿美元，并于 2019 年由 ASML 首次部署，后者保持着 100% 的市场份额。 到目前为止，ASML 已经出货了三种不同的 EUVL 系统型号，即 TwinscanNXE：3400B/C 和 NXE：3600D，NXE 系统的总出货量从 ...
NIST、高盛发布报告！极紫外(EUV)光刻的现状、需求和展望
2023年9月14日 · 2）用于产生EUV的辐射测量 工业级超紫外激光工具主要使用两种光：用于电离熔融锡(Sn)的脉冲高功率红外(IR)激光，以及用于光刻的13.5纳米光。前者由专用CO2激光器(λ = 10.6 µm)提供，以50 kHz的重复频率发出约30 kW（平均功率）。
极紫外光刻（一种纳米级光刻技术）_百度百科
极紫外光刻 （英语：Extreme ultra-violet，也称 EUV 或 EUVL ）是一种使用 极紫外 （EUV）波长的 下一代光刻 技术，其波长为13.5 纳米 ，预计将于2020年得到广泛应用。 几乎所有的 光学材料 对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的 光学系统 只有使用 反光镜 [1] 。
什么是EUV光刻机？ - 半导体百科
尽管EUV光刻机相当之贵，接近1.2亿美元一台，但半导体厂商还是愿意去投入，因为7nm以及以上的工艺的确需要EUV光刻机，几时同样的7nm工艺，使用EUV光刻技术之后晶体管密度和性能都变得更好，根据台积电给出的数据，相较于初代7nm工艺，7nm EUV（N7+）可以提供1.2 ...
ASML揭秘High NA EUV光刻系统背后的内容、原因和方法-EDN 电 …
2024年1月29日 · exe:5000 代表了 euv 光刻技术的发展，而不是一场革命。我们尽可能多地重用了现有的 euv 技术，并且仅更改了提供系统分辨率和生产力增强所必需的方面。而且，与我们的 nxe euv 系统一样，exe 系统由可以在集成到完整系统之前进行独立测试的模块组成。
2023年光刻技术前沿【3】：第二代EUV光刻机的光源进展 - 知乎
2023年6月15日 · 通常我们把asml在2010年左右推出的euv光刻机叫做第一代euv光刻机，它的基本特征是采用数值孔径na0.33的euv反射光学系统的光刻平台nxe。 EUV光源 我们知道，为了进一步提升EUV光刻机的分辨率，适应下一代2纳米以下芯片制程的要求，ASML已经推出高数值孔 …
极紫外线光刻机 - 百度百科
极紫外线光刻机（Extreme Ultra-violet），又通常被称为EUV光刻机，它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。
- 某些结果已被删除