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7 天
EUV-Belichter: Effizienter und schneller dank neuem Laser
EUV-Strahlung zu erzeugen, ist extrem ineffizient. Ein neuer Festkörperlaser soll Abhilfe schaffen, er ist auch für ...
IT Times
5 天
Durchbruch in der Lithografie: USA entwickeln Laser zur Steigerung der EUV-Effizienz
LIVERMORE, Kalifornien (IT-Times) - Ein US-Forschungsinstitut will mit Hilfe von Lasertechnologie die Extreme Ultra Violett ...
Finanznachrichten
4 天
Durchbruch in der Lithografie: USA entwickeln Laser zur Steigerung der EUV-Effizienz
LIVERMORE, Kalifornien (IT-Times) - Ein US-Forschungsinstitut will mit Hilfe von Lasertechnologie die Extreme Ultra Violett (EUV)-Effizienz steigern und meldet nun einen Durchbruch in der ...
来自MSN
14 天
远超EUV光刻技术!由美国研发的新一代激光器要来了!
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正致力于研发一种革命性的激光器——拍瓦级(petawatt-class)铥激光器(thulium laser),其效率远超传统的CO2 EUV激光器,高达10倍之多,为下一代EUV光刻技术的突破奠定了坚实基础。
来自MSN
14 天
美国研发新型BAT激光器:EUV能源效率提升10倍!
1月6日消息,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器 ...
14 天
“超越EUV”时代:美国研发拍瓦级铥激光器有望大幅提升芯片制造效率
在半导体制造领域,极紫外光刻(EUV)技术一直是推动芯片制造先进工艺发展的关键。然而,当前的EUV光刻系统面临着能耗高、成本昂贵等问题。近日,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布正在研发一种基于铥元素的拍瓦级(petawatt-class)铥 ...
14 天
原创 美国研发新型BAT激光器:EUV能源效率提升10倍!
1月6日消息,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器的 10 ...
14 天
颠覆EUV光刻,美国研究新光源:效率大增
据报道,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在研发一种拍瓦级(petawatt-class)铥激光器(thulium laser),据说其效率比 EUV 工具中使用的二氧化碳激光器高 10 倍,并且可以在未来许多年内取代光刻系统中的二氧化碳激光器。
快科技
13 天
美国研发新型BAT激光器:EUV光刻能源效率提升10倍!
具体来说,ASML EUV光刻机的光源分为两个部分:第一个部分就是通快集团供应的30KW二氧化碳激光器,也称之为“drive laser”,其主要作用就是提供 ...
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