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原创 第三轮芯片限制升级后，我国距离自研浸润式DUV光刻机有多远？
而在3年前，美方为了限制中高端的浸润式DUV光刻机出口到我国，美方拉着日本、荷兰组成三方联盟，要求日本的尼康、佳能，荷兰的ASML需要获得许可的前提下方可出售先进光刻机。尼康、佳能在日方的要求下直接限制45nm以下工艺的光刻机出售。而ASML比较委婉 ...