光刻机是生产芯片的核心设备，因此光刻机越先进，芯片的工艺也就越先进。作为全球最领先的光刻机厂商，ASML生产的EUV光刻机能大规模量产7nm以下工艺的芯片，这就是先进光刻机带来的技术优势。并且ASML生产的浸润式DUV光刻机也是遥遥领先，不仅可以大规模 ...

所以，目前光刻机依然是所有芯片设备中，最关键的设备之一。 也正因为如此，所以美国限制ASML自由的将光刻机卖给我们，EUV肯定是不准卖的，连浸润式DUV光刻机，也做了限制，先进的不准卖，只能卖一些相对落后一点的给我们。 美国的目的很简单，卡住了 ...

在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...