文/王新喜近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源,但这个消息出来这么久了,美国、ASML与台积电一直保持沉默,但近期新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台表态看好中芯国际,认为其将利用本土优势在全球市场与台积电 ...
众所周知,ASML是全球最牛的光刻机厂商,垄断了全球85%以上的光刻机份额。 当然,更重要的是,ASML垄断了100%的EUV光刻机市场,垄断了95%以上的浸润式DUV光刻机市场,这两项才是最重要的。
全球最大的光刻机企业ASML日前表示不再公开对中国销售光刻机的数据,此举可能是它在反思此前公布数据,导致美国追溯相关的数据,导致企业的商业机密可能因此泄露,这对于它的经营不利。
哈尔滨工业大学(哈工大)近日宣布,已成功研发出13.5奈米极紫外光(EUV)光源技术,打破此领域由美国企业垄断的局面,也为大陆的国产EUV曝光机制造点亮了一线曙光。此消息一出,对于掌握EUV曝光机主导地位的ASML(艾司摩尔)来说始料未及,该公司先前曾强调,EUV机台的开发仰赖超过40个国家、数百家供应商技术的匯集。
美国劳伦斯利弗摩国家实验室(LLNL)正在研发拍瓦 ...
1月6日消息,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器的 10 倍,并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 ...
据劳伦斯利弗莫尔国家实验室的研究团队介绍,相比现有EUV光刻系统所采用的CO2激光器,BAT 激光器可以将 EUV能源效率提高约 10 倍。这可能会助力未来“beyond EUV”光刻系统能够生产更小、更强大、制造速度更快、耗电量更少的芯片。
在做出这些半导体市场预测时,笔者假设奇点将出现在 2045 年,即20多年后的遥远未来。不过,正如开头介绍的那样,库兹韦尔先生表示,奇点将在2029年到来,比原计划提前了16年。
柯恩指出,EUV曝光机堪称现代工程奇迹,它有两点令人印象深刻:一是 ASML与德国光学公司蔡司合作研发的镜片,若将镜片放大到与整个德国同等大小,整个镜面的误差不会超过1公厘;二是EUV的精准度之高,相当于从房屋发射雷射光束,并在月球上打乒乓球。
当地时间1月17日,荷兰政府决定不再公开披露光刻机巨头ASML的对华销售情况。这一决定引起了广泛关注,因为荷兰过去一直定期披露具有潜在军事用途的“两用”产品出口信息,供专家和议会等机构了解。
中国科学家正在开创极紫外光刻技术(Extreme Ultraviolet Lithography,EUV)开发的新方法,这一技术的进展为大规模生产先进半导体芯片铺平了道路。在当前研究人员努力规避美国严格制裁的背景下,这些突破显得尤为重要。
最后,对于中芯国际面临的技术瓶颈,王国辉承认,中国目前确实无法获得 ASML 的 EUV 光刻机,而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。然而,他随后指出,只需要一家中国公司成功开发出国产EUV光刻机,那么“芯片战争就会结束”。 而对于EUV光刻机来说 ...